Главная » 2009 » Апрель » 14 » Разработчики MIT разработали технологию для создания сверхтонких линий на чипах
Разработчики MIT разработали технологию для создания сверхтонких линий на чипах | 17:42 |
| Исследователи из Массачусетского технологического института (MIT) сообщили, что они создали технологию, которая позволит производителям чипов создавать более тонкие линии интегральных микросхем, чем позволяют существующие технологии. Раджеш Менон (Rajesh Menon), инженер-исследователь с кафедры электротехники и компьютерных наук MIT, вкратце рассказал о новой технологии.
Группа учёных разработала способ сфокусировать лучи света при производстве чипов, который позволяет получить гораздо более мелкий масштаб. Производители чипов используют лучи света для создания схемы на полупроводнике, но большинство современных методов не позволяет создавать линии, которые тоньше длины волны используемого света. Исследователи MIT заявили, что разработанная ими технология позволяет получить очень тонкую линию благодаря использованию лучей света с различной длиной волны. При этом применяется явление интерференции, когда световые волны с различной длиной волны в одних определённых точках усиливают друг друга, а в других точках ослабляют.
По словам разработчиков, до практического применения этого метода в массовом производстве пройдёт около пяти лет, но, в отличие от существующих способов производства интегральных микросхем, новый метод позволит создавать линии связи и транзисторы с шириной, сравнимой с величиной молекулы, около 2-3нм. Чипы, сделанные по интерференционной технологии печати, будут очень энергоэффективны и будут работать на очень больших скоростях. Менон считает: "Если вы сделаете транзисторы меньше, то они, как правило, будут работать быстрее, и вы получите большую функциональность". Кроме того, по мнению Менона, теоретически переход на интерференционную технологию позволит заметно снизить производственные издержки.
Крупные производители процессоров, такие как Intel и AMD, как правило, при производстве чипа сначала делают фотомаску, то есть печатают образец полупроводниковой схемы на стеклянной пластине, а потом с помощью фотомаски переносят схему на кремниевую пластину. "То, что делает Intel, является репликацией схемы", ─ говорит Менон, отмечая, что современный подход, используемый Intel и другими производителями, связан с использованием электронных пучков. Новая технология, разработанная в MIT, предполагает непосредственное создание шаблона с помощью источников света, которые могут быть более точно сфокусированы и обеспечивают высокую гибкость при быстро меняющемся дизайне чипа.
"Если вы создаёте чип с помощью пучков электронов, то у вас часто будут проблемы с точностью," ─ считает Менон. ─ "Ваши модели всегда будут несколько искажены, что может иметь большое влияние на производительность устройства. Фотоны будут следовать туда, куда вы их направите, в то время как электроны не могут быть точными в наномасштабе."
Пока разработчики сделали только схемы с шириной линий 36нм, это немного больше, чем ширина линий в самых современных схемах Intel, 32нм. Тем не менее, по словам разработчиков, новая технология позволит делать линии во много раз уже существующих образцов. Менон признал, что у интерференционного метода есть естественное ограничение: размер молекулы. Применение этой технологии ограничено, так как невозможно сделать на плате, состоящей из молекул, дорожку уже, чем одна молекула. Но пока до этого ограничения ещё далеко.
Источник: Computerworld
|
|
Категория: Новости железа |
Просмотров: 1195 |
Добавил: Strashila
| Рейтинг: 5.0/2 |
Добавлять комментарии могут только зарегистрированные пользователи. [ Регистрация | Вход ] |
|
Статистика
|
Онлайн всего: 1 Гостей: 1 Пользователей: 0
|
|
